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  • 真空離子鍍膜設備

    主要功能:

    采用等離子體離子刻蝕和離子鍍膜技術相結合,在低溫條件下,對類回轉體復合材料表面制備電磁屏蔽功能涂層。功能涂層具備良好的介電特性,以及優異的基體結合性能。設備配置陽極層離子源、磁過濾等離子體源和伸縮磁控濺射源等,可對長度超過3000mm的產品進行功能涂層制備,設備采用全自動控制技術,可實現工藝和產品生產一鍵式操作。

    技術參數

    技術參數:

    l真空室體:2000mm×3870mm

    l 極限真空度:≤3×10-4Pa

    l 薄膜沉積速率:2μm Al膜小于10小時

    l 薄膜厚度公差:≤±15%

    l 薄膜沉積溫度:≤120°C

    l 工件尺寸:≤ F1600mm×3200mm

    地址:成都市雙流區西航港大道中四段219號

    郵編:610207

    電話:028-82820926 028-82820927 028-82820929

    傳真:028-82820932 028-82820926

    郵箱:tc@swip.ac.cn

    官方微信

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