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  • 專用復合材料磁控濺射鍍膜設備

    主要功能:

    采用磁控濺射沉積與離子刻蝕相結合,對專用復合材料進行內表面鍍膜處理,沉積致密金屬涂層。設備配置4套柱狀磁控濺射源,設計有電動頂升系統,可以同時對4件柱狀管材產品進行鍍膜沉積工藝處理,實現復合材料內表面涂層工藝的小批量加工。

    技術參數

    技術參數:

    真空室:?650×750mm

    極限真空:≤2×10-4Pa

    沉積速率:≥2μm/h

    產品規格:?145mm×500

    產品數量:4件/爐

    地址:成都市雙流區西航港大道中四段219號

    郵編:610207

    電話:028-82820926 028-82820927 028-82820929

    傳真:028-82820932 028-82820926

    郵箱:tc@swip.ac.cn

    官方微信

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