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  • 磁控濺射鍍膜系統

    主要功能:

    采用離子源技術和磁控濺射技術相結合,對船用軸瓦進行表面清洗刻蝕處理,隨后沉積減磨涂層。膜層具備高強結合力和優異摩擦磨損性能,可替代傳統化學電鍍方法。設備配置平面孿生磁控濺射源、陽極層霍爾離子源以及專用水冷工件轉架,可實現對大型軸瓦的批量處理。

    技術參數

    技術參數:

    真空室:?1300×1500mm

    極限真空:£2′10-4Pa

    沉積速率:≥5μm/h

    產品規格:≤?300mm×50 

    產品數量:≥160件/爐

    地址:成都市雙流區西航港大道中四段219號

    郵編:610207

    電話:028-82820926 028-82820927 028-82820929

    傳真:028-82820932 028-82820926

    郵箱:tc@swip.ac.cn

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